IC行业清洗纯水,OLED清洗纯水太阳能光伏用纯水设备,光电行业用纯水设备,半导体行业用纯水设备,单晶硅/多晶硅/硅材料/太阳能电池用工业纯水设备,LCD液晶显示器纯水设备,LED光学纯水设备,玻璃镀膜配套chao 高纯水设备,光学镜片清洗用纯水设备,薄膜电池多晶铸锭超纯水设备, EDI电去离子,各行业用超纯水处理设备。
特点:在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,全膜法处理工艺:UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。保证产品质量的需求!能够将水中的杂质进行进一步的去除,经过反渗透装置处理以后的出水能进一步符合使用要求,也为后续的处理做准备,这也是整个反渗透纯水设备中非常核心的一部分。反渗透纯水设备不同于普通的过滤设备,拥有更加精细的各种过滤器,这样能够更好地实现对于原水异味、杂质的去除和过滤。
参数:污染物去除率脱盐率:99.8% 有机物去除率:>150MW 细菌隔除率:>99% 热原去除率:>99% 颗粒去除率:>99% 进水要求:污染指数(SDI):<5 余氯:<0.1mg/L PH:5-8